摘要：为了制备低折射率疏水SiO2薄膜,将正硅酸乙酯（TEOS）和二甲基二乙氧基硅烷（DDS）在碱性条件下共水解缩聚,再以六甲基二氮硅烷（HMDS）做进一步的改性,采用提拉浸渍工艺在玻璃基底上制备单层增透膜。通过对溶胶粘度随老化时间的变化规律及HMDS添加对薄膜接触角影响等的分析与研究,制备了接触角最大的低折射率薄膜;同时对薄膜的红外特性、透过率、折射率进行了表征。结果表明:TEOS和DDS共水解缩聚提高了膜层疏水性,经HMDS改性后,薄膜的接触角为149°,折射率为1.12。
分类：期刊> 自然科学与工程技术> 工程科技I> 材料科学
收录：北大期刊(中国人文社会科学期刊) > CSCD 中国科学引文数据库来源期刊(含扩展版) > 统计源期刊(中国科技论文优秀期刊) > 知网收录(中) > 维普收录(中) > 万方收录(中) > CA 化学文摘(美) > JST 日本科学技术振兴机构数据库(日) > 国家图书馆馆藏 > 上海图书馆馆藏
关键词：疏水 折射率 改性
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
