摘要：以微磁学理论为基础,详细研究了厚度不变,尺寸和间距的变化对Nd2Fe14B图形化点阵磁性能和磁反转过程的影响.结果显示,当点阵厚度（20 nm）和间距 （30 nm） 保持不变,随着点阵半径的增大,矫顽力和交换作用能降低,静磁能逐渐增大,磁化过程由-致反转的单畴态过渡到非-致反转的多畴态;保持点阵厚度（20 nm）和点阵半径（30 nm）不变,随着点阵间距的增大,磁耦合相互作用减弱,矫顽力逐渐增大,当间距增大到40 -50 nm 时,磁耦合相互作用基本消失,矫顽力基本不再发生变化.
分类：期刊> 自然科学与工程技术> 工程科技II> 电力工业
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关键词：nd2fe14b 图形化点阵 微磁学 矫顽力
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