集成电路制造工艺技术现状与发展趋势

作者：周哲; 付丙磊; 王栋; 颜秀文; 高德平; 王志越

摘要：对当前集成电路制造工艺的主要挑战、研究现状进行了综述，并对其发展趋势进行了展望。

分类：期刊> 自然科学与工程技术> 信息科技> 无线电电子学

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关键词：集成电路摩尔定律特征尺寸制造工艺

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