摘要：MTM（Metal To Metal）反熔丝薄膜工艺是反熔丝工艺的关键技术。介绍了MTM反熔丝薄膜单项工艺开发采用的DOE（Design of Experiment）试验方法。基于CVD（Chemical Vapor Deposition）工艺,通过对射频RF、气体1流量以及基座间距进行DOE试验设计,以厚度均匀性、折射率以及应力等工艺参数响应并通过容宽验证,完成反熔丝薄膜主要参数的工艺菜单开发。主要提供一种采用DOE试验设计进行单项工艺开发的方法,为科研生产中各种关键单项工艺开发提供参考和借鉴。
分类：期刊> 自然科学与工程技术> 信息科技> 无线电电子学
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关键词：单项工艺 反熔丝薄膜 doe试验设计方法
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