摘要：利用磁控溅射技术,在纯Ar和Ar-He混合气氛下制备CuAlTiWV高熵合金薄膜。利用场发射扫描电子显微镜（Field Emission Scanning Electron Microscope,FESEM）、高分辨透射电子显微镜（High Resolution Transmission Electron Microscope,HRTEM）和X射线衍射仪（X-ray Diffraction,XRD）分别表征了薄膜的微观形貌和相结构,用划痕实验和FESEM研究薄膜的膜基结合强度和失效模型。结果表明：未掺氦且未退火CuAlTiWV高熵合金为非晶相基体上弥散分布着体心立方（Body Centered Cubic,BCC）相和金属间化合物相纳米尺寸粒子的结构。氦的引入和退火处理会影响薄膜的结晶度,但不会改变晶体结构类型。此外氦会使薄膜的表面产生鼓包,膜基界面处产生孔洞,从而使薄膜的临界载荷降低,失效模型由黏着失效转变为内聚失效。
分类：期刊> 自然科学与工程技术> 工程科技II> 核科学技术
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关键词：高熵合金 氦 相结构 退火 失效模型
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