摘要:化学铜主要用于印制电路板孔金属化和塑料电镀,因其镀层具有良好的延展性、导热性和导电性而成为PCB的核心工艺之一。镀层质量除了跟本制程有关外,还受前制程的影响。本文从微蚀速率和背光的角度分析微蚀和加速制程对化学铜的影响。
分类:期刊> 自然科学与工程技术> 信息科技> 无线电电子学
收录:知网收录(中) > 维普收录(中) > 万方收录(中) > 国家图书馆馆藏 > 上海图书馆馆藏
关键词:微蚀 加速 背光
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社
摘要:化学铜主要用于印制电路板孔金属化和塑料电镀,因其镀层具有良好的延展性、导热性和导电性而成为PCB的核心工艺之一。镀层质量除了跟本制程有关外,还受前制程的影响。本文从微蚀速率和背光的角度分析微蚀和加速制程对化学铜的影响。
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