摘要：目前光学减反光膜、 光学装饰膜等广泛应用于消费电子行业,这些光学膜主要采用电子束蒸发和反应磁控溅射等方式制造.传统的反应磁控溅射光学膜具有致密度高、 附着力好、 颜色稳定等优点, 但过氧态沉积速率低, 生产效率不高. 本文利用等离子体辉光发射监控技术 （PEM） 来稳定控制中频反应溅射过程中的靶状态, 使靶材稳定在过渡态镀膜,既提高沉积速率, 又不影响光学性能.实验结果表明, 采用 PEM 反馈控制中频反应溅射制备氧化铌薄膜, 777 nm 处氧辉光强度设定值为 40%时 （过氧态标定为 90%） , 沉积速率较传统的过氧态提高 1-2 倍; 采用靶电压反馈控制中频反应溅射制备氧化硅薄膜, 靶电压设定值为 29%时 （纯硅靶电压标定为 90%） , 其沉积速率是过氧态的 2~3 倍.可见光透过率曲线显示没有明显增加吸收.按照此设定值制备 4 层 AR 膜, 单炉镀膜时间由原来的 2.3h （过氧态镀膜） 缩减到 1h,产能提高 1 倍以上.
分类：期刊> 自然科学与工程技术> 工程科技II> 机械工业
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关键词：磁控溅射 减反射膜 氧化硅 氧化铌
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