《Journal Of Physics D-applied Physics》期刊

杂志介绍

JCR分区

中科院分区

3区

影响因子

3.2

CiteScore

5.9

期刊收录

SCI、SCIE

Journal Of Physics D-applied Physics（中文译名：《应用物理学杂志》），ISSN：0022-3727，EISSN：1361-6463，是IOP Publishing Ltd.出版的国际性学术期刊，创刊于1970年，以Weekly形式稳定发行，2026年总发文量约1163篇。该刊采用非OA开放访问，学科归属为物理 - 物理：应用。该刊是物理与天体物理、物理应用领域的国际权威刊物，已被SCI（科学引文索引）、SCIE（科学引文索引扩展版）等国际主流学术数据库收录。2026年期刊影响因子达3.2，2025年期刊CiteScore为5.9，2025年期刊自引率约9.4%，在中科院期刊分区体系中位列物理与天体物理大类3区，在所属学科领域具备高学术影响力与国际认可度。Journal Of Physics D-applied Physics长期聚焦物理与天体物理、物理应用及相关产业的技术应用前沿，平均审稿周期约1.9个月，审稿流程高效稳定。在稿件录用评判中，该刊将创新性与前沿性作为核心遴选标准，重点收录能够对物理与天体物理、物理应用领域的落地与发展产生实质性推动价值的研究成果。

从全球发文格局来看，CHINA MAINLANDUSA、GERMANY (FED REP GER)、Japan、India、France、England等为核心发文国家与地区；

期刊评价

名词解释：

影响因子（Impact Factor, IF）：指该期刊前两年发表的文章，在第三年的平均被引用次数。它反映了期刊的近期平均影响力和热度。

中科院分区：中科院分区表是国内主流的学术期刊分级评价工具，核心意义是建立跨学科可比的统一评价标尺，为职称评审、学位授予、科研立项等科研管理工作提供标准化量化依据，同时帮助科研人员筛选优质期刊、规避学术风险，适配国内本土化的科研评价需求。

期刊分区表

《新锐期刊分区表》（2026年3月发布）

大类学科	小类学科	Top期刊	综述期刊
物理与天体物理 3区	PHYSICS, APPLIED 物理：应用 3区	否	否

期刊分区表（2025年3月升级版）

大类学科	小类学科	Top期刊	综述期刊
物理与天体物理 3区	PHYSICS, APPLIED 物理：应用 3区	否	否

期刊分区表（2023年12月升级版）

大类学科	小类学科	Top期刊	综述期刊
物理与天体物理 3区	PHYSICS, APPLIED 物理：应用 3区	否	否

JCR分区

2025-2026年最新版

按JCI指标学科分区	收录子集	分区	排名	百分位
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	86 / 191	55.2
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	77 / 191	59.95

2024-2025年最新版

按JCI指标学科分区	收录子集	分区	排名	百分位
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	71 / 187	62.3
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	75 / 187	60.16

中国学者近期发文

Enhanced Goos-Hänchen shift at normal incidence using Tamm plasmon polariton

Author:Zhang, Shi-Yi; Ding, Yan-Jing; Geng, Zi-Ru; Wu, Li-Ting; Guo, Tian-Jing; Kang, Ming; Chen, Jing

Journal: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. 2026; Vol. 59, Issue 17, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6463/ae6126

Ultra-wide bandgap, piezoelectricity, and spin-orbit coupling in cluster-assembled monolayer

Author:Wang, Huilin; Zhou, Lixin; Wei, Yingjie; Guo, Yu; Su, Yan; Zhao, Jijun

Journal: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. 2026; Vol. 59, Issue 16, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6463/ae5fa4

Study of dark zone phenomenon of three-electrode dielectric barrier discharg

Author:Liu, Qiaojue; Guo, Zhanhe; Hu, Mengying; You, Mi; Chen, Yangyang; Wu, Shuqun

Journal: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. 2026; Vol. 59, Issue 16, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6463/ae57b4

A miniaturized low-profile frequency selective rasorber with broadband absorption and dual-transmission respons

Author:Li, Wenxing; Jiang, Zhongshu; Zou, Ao; Yu, Yu; Wang, Jinke; Miao, Ling; Jiang, Jianjun

Journal: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. 2026; Vol. 59, Issue 16, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6463/ae5e81

Signal-enhancement mechanisms of Al and Pb in kaolinite by discharge-assisted LIB

Author:Zhang, Yubo; Wang, Jiawei; Jin, Xuemei; Zhu, Huihui; Su, Xiaohui; Qiu, Rong; Zhou, Qiang; Gu, Zhouyu; Li, Ruoxi; Lü, Tao

Journal: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. 2026; Vol. 59, Issue 15, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6463/ae5ab6

Spin-polarized photocurrents in bilayer VS2: photogalvanic effect with magnetic and polarization light contro

Author:Luo, Bing; Huang, Hongwu; Li, Yaning; Xu, Zhonghui; Hou, Chunju

Journal: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. 2026; Vol. 59, Issue 15, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6463/ae5986

Nanoindentation insights into intrinsic fracture toughness anisotropy of SiC single crystals and implications for laser-guided fracture propagatio

Author:Fan, Zhiqiang; Zhang, Jiaxin; Chen, Shengqiang; Zhang, Pengsen; Feng, Yuezhong

Journal: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. 2026; Vol. 59, Issue 15, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6463/ae5984

Evaluation of alkali metal-decorated BeC monolayers as reversible hydrogen storage media by first-principles calculation

Author:Xing, Hanxin; Jia, Siya; Yong, Yongliang; Liu, Zhiyong; Guo, Wentao; Zhang, Shaofeng; Wang, Xinxin; Li, Xinli

Journal: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. 2026; Vol. 59, Issue 14, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6463/ae57b8

Investigation of turn-off dv/dt controllability in ultrahigh-voltage SiC P-IGBT

Author:Wei, Wei; Tian, Xiaoli; Liu, Xinyu; Wang, Xinhua; Bai, Yun; Li, Xuan; Yang, Chengyue; Tang, Yidan; Mai, Ruixue; Wang, Kaikai; Li, Chengzhan

Journal: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. 2026; Vol. 59, Issue 14, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6463/ae571b

Femtosecond laser-induced fabrication and performance study of scattering protrusions on silicon dioxide surface

Author:Li, Chen; Xu, Jinwen

Journal: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. 2026; Vol. 59, Issue 14, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6463/ae58b6

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