Plasma Sources Science & Technology（中文译名：《等离子源科技》），ISSN：0963-0252，EISSN：1361-6595，是IOP Publishing Ltd.出版的国际性学术期刊，创刊于1992年，以Bimonthly形式稳定发行，2026年总发文量约225篇。该刊采用非OA开放访问，学科归属为物理 - 物理：流体与等离子体。该刊是物理与天体物理、物理流体与等离子体领域的国际权威刊物，已被SCI（科学引文索引）、SCIE（科学引文索引扩展版）等国际主流学术数据库收录。2026年期刊影响因子达3.5，2025年期刊CiteScore为6.6，2025年期刊自引率约22.9%，在中科院期刊分区体系中位列物理与天体物理大类2区，在所属学科领域具备高学术影响力与国际认可度。Plasma Sources Science & Technology长期聚焦物理与天体物理、物理流体与等离子体及相关产业的技术应用前沿，平均审稿周期约6.0个月，审稿流程高效稳定。在稿件录用评判中，该刊将创新性与前沿性作为核心遴选标准，重点收录能够对物理与天体物理、物理流体与等离子体领域的落地与发展产生实质性推动价值的研究成果。
从全球发文格局来看，USACHINA MAINLAND、GERMANY (FED REP GER)、France、Russia、Netherlands、Japan等为核心发文国家与地区；