Afterall（中文译名：《最终》），ISSN：1465-4253，EISSN：2156-4914，是University of Chicago Press出版的国际性学术期刊，以2 issues/year形式稳定发行，2026年总发文量约0篇。该刊采用非OA开放访问，学科归属为ART。该刊是艺术学、艺术领域的国际权威刊物，已被SCIE（科学引文索引扩展版）等国际主流学术数据库收录。2026年期刊影响因子达0.2，2025年期刊CiteScore为0.1，2025年期刊自引率约0%，在中科院期刊分区体系中位列艺术学大类4区，在所属学科领域具备高学术影响力与国际认可度。Afterall长期聚焦艺术学、艺术及相关产业的技术应用前沿，在稿件录用评判中，该刊将创新性与前沿性作为核心遴选标准，重点收录能够对艺术学、艺术领域的落地与发展产生实质性推动价值的研究成果。
从全球发文格局来看，USAEngland、Singapore、Canada、GERMANY (FED REP GER)、Switzerland、Belgium等为核心发文国家与地区；CITY UNIVERSITY OF NEW YORK (CUNY) SYSTEMNANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY & NATIONAL INSTITUTE OF EDUCATION (NIE) SINGAPORE、UNIVERSITY OF LONDON、CALIFORNIA STATE UNIVERSITY SYSTEM、KINGSTON UNIVERSITY、LUNDS KONSTHALL、MALMO ART ACAD等高校与科研机构是期刊的主要发文单位。