400-808-1701

Plasma Chemistry And Plasma Processing

Plasma Chemistry And Plasma Processing杂志,由Springer US出版,于1981年创刊,Quarterly,出版语言English,ISSN:0272-4324,E-ISSN:1572-8986。

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CiteScore(2026年6月最新版)

CiteScore SJR SNIP 学科 排名 百分位
5.9 0.585 1.007
大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics
Q2
115 / 446

74%

大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces, Coatings and Films
Q2
41 / 141

71%

大类:Physics and Astronomy 小类:General Chemistry
Q2
123 / 402

69%

大类:Physics and Astronomy 小类:General Chemical Engineering
Q2
88 / 270

67%

名词解释:

CiteScore:由 Scopus 数据库发布,统计期刊连续 3 年全部发文(涵盖论文、综述、短篇通讯等所有文献类型)在统计年度的篇均被引次数。它覆盖的文献范围更广,能更全面地反映期刊整体学术影响力,是同领域期刊横向对比的核心参考指标。

自引率:指期刊引用自身发表文献的次数占总被引次数的比例,是衡量期刊学术健康度的关键指标。自引率越低,说明期刊的影响力越来自外部学术共同体的真实认可;自引率过高则存在人为抬高引用数据的风险,可辅助判断期刊影响力的含金量。