Plasma Chemistry And Plasma Processing（中文译名：《等离子化学和等离子处理》），ISSN：0272-4324，EISSN：1572-8986，是Springer US出版的国际性学术期刊，创刊于1981年，以Quarterly形式稳定发行，2026年总发文量约81篇。该刊采用非OA开放访问，学科归属为工程技术 - 工程：化工。该刊是物理与天体物理、工程化工领域的国际权威刊物，已被SCI（科学引文索引）、SCIE（科学引文索引扩展版）、EI（工程索引）等国际主流学术数据库收录。2026年期刊影响因子达3.5，2025年期刊CiteScore为5.9，2025年期刊自引率约5.7%，在中科院期刊分区体系中位列物理与天体物理大类3区，在所属学科领域具备高学术影响力与国际认可度。Plasma Chemistry And Plasma Processing长期聚焦物理与天体物理、工程化工及相关产业的技术应用前沿，平均审稿周期较慢,6-12周，审稿流程高效稳定。在稿件录用评判中，该刊将创新性与前沿性作为核心遴选标准，重点收录能够对物理与天体物理、工程化工领域的落地与发展产生实质性推动价值的研究成果。
从全球发文格局来看，CHINA MAINLANDRussia、USA、France、GERMANY (FED REP GER)、Czech Republic、Iran等为核心发文国家与地区；